
远岸科技 · 706 半导体硅片清洗剂 说明书(TDS)
远岸科技 706 半导体硅片清洗剂
(硅片/晶圆专用水基清洗剂)
文件编号:YA‑706‑202605
版本:V1.0
一、产品概述
706 半导体硅片清洗剂为中性水基浓缩型清洗剂,专为半导体单晶硅/多晶硅、光伏硅片、晶圆切割/研磨/抛光后清洗设计;强力去除硅粉、抛光粉、切割油、研磨油、蜡质、残胶、指纹、有机物,对硅基底、氧化层、铝/铜金属线路无腐蚀、无咬蚀、无白斑。
适用场景:硅片镀膜前清洗、扩散前清洗、光刻前清洗、划片后清洗、光伏硅片制绒前清洗,光学玻璃镀膜前清洗,光学玻璃镀膜后清洗。
二、理化特性(典型值)
- 外观:无色至淡黄色透明液体
- pH(原液,25℃):10.5-11.5 (碱性液体)
- 密度:1.02±0.03 g/cm³
- 气味:轻微温和气味
- 闪点:无闪点、不燃不爆
- 稳定性:常温稳定,不分层、不沉淀
- 环保:符合 RoHS、REACH、无磷、低VOC
三、主要成分(安全复配)
- 非离子表面活性剂(低泡、强渗透)
- 高效螯合剂(除金属离子、防返沾)
- 有机缓蚀剂(保护硅/氧化层/金属)
- 去离子水(电子级)
- 无磷、无氨水、无强酸强碱、无ODS
四、清洗对象
- ✅ 线切割:切割油、冷却液残留、硅粉颗粒
- ✅ 研磨/抛光:氧化铈、抛光粉、抛光蜡、研磨油
- ✅ 光刻/封装:光刻胶残胶、红胶、UV胶、助焊剂
- ✅ 表面污染:指纹、汗渍、油污、尘粒、有机物膜
- ✅ 镀膜前:保证硅片完全亲水、无油膜、无颗粒
五、产品特点(优势)
1. 对硅片、SiO₂、Al、Cu、Au 无腐蚀,不伤膜、不脱膜、不发白
2. 高洁净:清洗后表面完全亲水、无水印、无残留,满足半导体/光伏高洁净要求
3. 低泡适配:低泡配方,兼容超声、喷淋、浸泡、兆声
4. 浓缩经济:1:10–1:50 稀释,寿命长、成本低
5. 环保易处理:可生物降解,废水简单处理即可排放
六、推荐使用工艺(标准)
1)配比(体积比)
- 常规油污/硅粉:706 : DIW = 1 : 20
- 重油污/抛光蜡:1 : 10
- 轻度除尘/维护:1 : 50
2)温度
- 颗粒/粉尘:45–60℃
- 油污/蜡/残胶:60–70℃(最佳)
3)时间
- 超声波:5–10 min
- 浸泡:10–20 min
- 喷淋:3–5 min
4)标准流程(硅片镀膜前)
1. 预洗:DIW 冲除大颗粒
2. 超声清洗:706(5%),50℃,5–10 min
3. 漂洗1:流动 DIW,2 min
4. 漂洗2:溢流 DIW,3 min
5. 脱水:IPA 或慢拉脱水
6. 烘干:80–100℃,无尘烘干
7. 检验:表面完全亲水、不挂水珠、无水印
七、禁忌与注意事项
- ❌ 禁止与强酸、强碱、含氯药剂混用
- ❌ 避免高温(>70℃)长时间浸泡
- ✅ 建议使用 PP/PE/PTFE 槽体
- ✅ 工作液定期过滤、及时除渣,延长寿命
- ✅ 皮肤接触:清水冲洗即可;眼睛接触:大量清水冲洗并就医
八、包装与储存
- 包装:25 kg/桶(塑料桶)、200 kg/桶 或吨桶
- 储存:阴凉通风、10–40℃,密封保存
- 保质期:12 个月(未开封)
九、质量标准
- 符合 JB/T 4323‑2019 水基清洗剂标准
- 符合 欧盟 RoHS、REACH 环保指令
十、售后服务
- 免费试样、免费小批量试洗
- 提供工艺指导、现场调试、技术支持
免责声明
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