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晶圆切割清洗剂/晶园切割抗氧化剂

产品主要用于各类晶圆圆片、LED、硅片、陶瓷基板的切割,产品具有很好的润滑性和清洁性,以及抗氧化性。能快速带走切割过程中...

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圆切割清洗 2019F

     

产品简介:

产品主要用于各类晶圆圆片、LED、硅片、陶瓷基板的切割,产品具有很好的润滑性和清洁性,以及抗氧化性。能快速带走切割过程中产生的硅粉颗粒物、减少因硅粉导致的划伤,切割后硅片切口整齐光滑无崩裂,切割后对半导体材料不腐蚀,防止晶圆镀金面发黄,发暗大幅减少切割过程中的不良;本品环保可降解。

 

2019F半导体芯片切割清洗液,防氧化、易清洗、提升晶圆切割效率与品质合格率。光伏硅片切割、LED切割都适用。本品不堵塞管道、易清洗。

 

 

推荐用途:本产品适用于半导体晶圆及光电材料的切割清洁,以及抗氧化。

 

产品描述:

1、采用优质润滑脂及表面活性剂,具有良好的冷却性、润滑性、粉末沉降性及清洁性;

2、能有效的降低水表面张力,且增加导电率,避免硅粉吸附;

3、具有良好的抗氧化,防变色性能,防止晶圆镀金面发黄,发暗;

4、完全中性产品,不影响晶圆上金属部件光泽;不氧化被切割材料

5、减少崩边、翘曲、划伤等问题,显著提高产品良率;

6、不含有毒害、刺激性原料,产品环保温和无刺激;

7、延长切割刀使用寿命,提高加工效率;

8 、产品环保可生物降解,无危险,废液容易处理。

 

 

二、产品数据:   

特性

单位

數据

外现(原液)

透明微色液体

外观(稀释液)

透明的液体

气味

傾点

[℃]

-5

运动粘度

[mm²/s,40℃]

7.2±0.5

密度

[kg/m³.15℃]

0.98-1.02

PH值(5%)

7.0±0.5

三、产品使用:

根据要求1:3-4倍后,在1:1000兑水使用,产品在循环使用过程中,可以长期保持清洁透明状态,只须在工作液变淡时补充兑好水的工作液,或原液即可,长时间循环工作后,静置沉淀后,上层清液可以继续工作。

 

具有优异润滑性、抗氧化性、冷却性、分散性、极压承载能力以及清洁能力,从而大大降低切割阻力和应力,减少表面缺陷,防止因温差变化而导致芯片加工尺寸频繁变化。为提高后道工序Bonding强度和改良Gap缺陷而建立了良好基础。

 

image.png 

 

产品包装、贮存和运输: 

塑料桶包装: 加仑壶包装  支持按需定做

非危险品易于储存和运输;

贮存期两年,不能露天存放,防止 日晒雨淋;

未使用完的切割液须将桶盖拧紧,避免水分及杂质混入。

保质期:二年

 

 

本资料是以远岸科技认为可靠的技术资料为基础的,免费提供,仅有技术背景的人员参考,使用者应自行处理并承担由此引起的责任。由于使用条件超出本公司的控制范围,对于与本资料有关的任何使用,本公司无法提供直接或暗示的保证,且不对使用本资料负任何法律责任。本文中所述的任何资料都不应当成使用上的许可或侵犯任何权力的建议。

 

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